█武漢大學(xué)科教管理與評價研究中心 陳立新 張琳 黃穎
第四部分 2022年日本發(fā)明專利統(tǒng)計分析報告
36 世界主要機構(gòu)的日本專利布局
36.43 LG化學(xué)公司的日本局專利狀況
2022年，LG化學(xué)公司獲得日本專利614項，比上一年增長了-10%，是獲得日本專利數(shù)量第43多的機構(gòu)。
相對來講，LG化學(xué)公司專利研發(fā)的優(yōu)勢領(lǐng)域是：有機高分子、化工、有機化學(xué)、光學(xué)與攝影、非金屬成型加工。其在這5個技術(shù)領(lǐng)域上的專利份額相對較高，為2.9%至1%。
表36.43-1 2022年LG化學(xué)公司主要技術(shù)領(lǐng)域的專利分布
技術(shù)領(lǐng)域
專利數(shù)量
占比（%）
1
有機高分子
255
2.9%
2
化工
109
1.3%
3
有機化學(xué)
72
1.1%
4
光學(xué)與攝影
140
1.1%
5
非金屬成型加工
91
1.0%
6
半導(dǎo)體元器件
72
1.0%
7
電池
61
0.8%
8
分離與混合加工
55
0.8%
9
半導(dǎo)體集成電路
12
0.5%
10
電氣元件與電路
90
0.5%
11
材料化學(xué)與納米
53
0.5%
12
顯示展示與聲學(xué)
28
0.5%
13
材料測試
17
0.2%
14
半導(dǎo)體制造
16
0.2%
15
紡織與印刷
17
0.2%
16
金屬成型加工
13
0.1%
17
光電測量與核物理
6
0.1%
18
計算機核心部件
2
0.1%
19
發(fā)電與輸變電
10
0.1%
20
制冷制熱與照明
8
0.1%
注：占比（%）指其在某領(lǐng)域上的專利數(shù)量占該領(lǐng)域的比例。
從絕對數(shù)量上來看，LG化學(xué)公司的重點技術(shù)領(lǐng)域是：有機高分子、光學(xué)與攝影、化工、非金屬成型加工、電氣元件與電路。其在這5個技術(shù)領(lǐng)域上的專利數(shù)量最多，為255至90項。
可見，LG化學(xué)公司的專利技術(shù)研發(fā)重點主要集中在有機高分子領(lǐng)域。
圖36.43-1 2022年LG化學(xué)公司在20個相對優(yōu)勢領(lǐng)域中的專利占比
致謝
感謝大連理工大學(xué)劉則淵教授、河南師范大學(xué)梁立明教授、科技部中國科學(xué)技術(shù)發(fā)展戰(zhàn)略研究院武夷山研究員對本報告的支持與幫助。同時，向以不同形式對本報告提出意見和建議的專家學(xué)者們表示誠摯的感謝。